設備簡述
爐體尺寸 |
φ1900*H1300 |
有效空間 |
φ1600*H1000 |
工件最大直徑*數量 |
φ175*20 |
標準配置 |
陰極弧8個/中頻圓柱靶6對 |
工作電壓/頻率 |
380V/50Hz |
實際功率 |
120KW |
應用技術 |
ZP+ARC(選配) |
靶材數量 |
圓柱靶12個/弧靶8個 |
極限壓力 |
5.0×10-4Pa |
漏率 |
<10-3Pa.L/s |
抽氣時間 |
大氣到4X10-3 < 25分鐘 |
真空系統(tǒng) |
分子泵、羅茨泵、旋片泵 |
標準涂層效果 |
IP黑,玫瑰金,IP金,寶石藍,香檳金,炫銀,咖啡色,七彩,槍黑色,鋯金,玫瑰紅等 |
電源類型 |
直流疊加脈沖偏壓電源、中頻磁控濺射電源、專用真空弧電源 |
工件轉架結構 |
下轉架結構 |
真空室結構 |
立式單開門 |
生產周期 |
1.5-3.5小時/爐 |
外圍尺寸 |
L3600*W3200*H2600mm |
控制方式 |
手動+半自動+全自動一體化 |
配套條件 |
循環(huán)水壓力:2-3KG/CM3 |
工業(yè)PC+工控軟件+PLC |
水量:10T/H |
||
自己開發(fā)的鍍膜專用控制軟件 |
壓縮空氣:4-6 KG/CM3 |
||
工作氣體 |
Ar、N2、O2、C2H2等 |
應用 |
裝飾類產品鍍膜 |
備注 |
真空室尺寸,外圍尺寸,設備外觀等可按客戶產品或及特殊工藝要求訂做,以上信息僅供參考。 |
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